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1100℃大口径真空管式炉
型号：
T12152C
用途：
此设备是专门为大工件或大批量热处理生产而研发制造的。
规格：
Φ152*1650mm
特点：
152mm超大管径，1100mm超长温区。
1100℃高温高压管式炉
此款炉管采用无缝镍基合金管,此款设备专为高温高压实验设计，最高压力高达21MPa，最高温度可达1100℃，并可通入多种氧化或惰性保护气体。对于高压制备新材料和作为小型热等静压处理合金样品，这是一款理想的高温管式炉。
1200℃ mini型真空管式炉
型号：
T1250S
用途：
物理/化学气象沉积（CVD/PVD）实验以及真空/气氛保护烧结、纳米材料制备等。
规格：
Φ50*600mm
特点：
较小的炉膛不仅使得温度控制更加精准而且具有好的稳定性
1200℃三温区管式炉
型号：
T1280C
用途：
某些热处理实验有时需要一个或多个温度梯度，比如CVD等镀膜试验。如此就会用到多温区的管式炉。
规格：
Φ60*1400mm
特点：
三个温区分别控制，互不影响。
1200℃单温区真空管式炉
型号：
T1260A
用途：
真空或气氛保护状态下烧结，CVD薄膜实验等
规格：
Φ50*1000，Φ60*1000，Φ80*1000，Φ100*1000
特点：
它集控制系统与炉膛为一体，外型精简大方，炉膛可打开。
1200℃双温区管式炉
1200℃双温区管式炉，其最高温度可达到1200℃，并可通过调节两个温区的控温程序使炉管内温场形成一温度梯度。两个温区分别由两个独立的温控系统来控制，而且都为PID30段程序化控温。此系列管式炉可以用CVD方法来生长纳米材料和制备各种薄膜。
1200℃旋转管式炉
型号：
R1260A
用途：
主要用于电池正负极材料，无强酸碱性粉体材料，颗粒状物料的实验室煅烧及干燥。
规格：
Φ60*1000
特点：
炉管可360度旋转，有助于材料烧结更均匀。
1500℃加长单温区管式炉
型号：
CHY-T1500-80ILT
用途：
1500℃以下真空或气氛状态下一次烧结多种样品
特点：
温区延长至480mm，可一次性烧结更多量样品
1500℃单温区真空管式炉
型号：
T1560A
用途：
1500温度范围内真空或气氛环境下烧结、还原、CVD镀膜等实验
1500℃小型开启式管式炉
型号：T1550S-O 特点：炉膛可开启，方便取放炉管，体积小巧，在实验室不占地方，是一款性价比高的高温管式炉
1500℃小型管式炉
型号：
T1550S
用途：
1500℃以下真空或气氛状态下烧结实验
规格：
刚玉管50*700mm
特点：
体积小，价格低，操作简便
1500双温区管式炉
型号：
T1560B
用途：
适用于CVD镀膜实验中用到多个温度梯度；多个温区设定同一温度点可作为加长的单温区使用
规格：
100～1500℃
特点：
温区加长，可实现两个温度梯度
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