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1100℃高温高压管式炉
此款炉管采用无缝镍基合金管,此款设备专为高温高压实验设计，最高压力高达21MPa，最高温度可达1100℃，并可通入多种氧化或惰性保护气体。对于高压制备新材料和作为小型热等静压处理合金样品，这是一款理想的高温管式炉。
1700℃ CVD系统
该常规型CVD设备是由1700℃管式炉、三路质量流量计和真空泵系统组成，用户可以选配不同型号的炉子和气路系统搭配不同的化学气相沉积系统。
定制款旋转管式炉
主要功能和特点：1、设备炉管可360度旋转，管内壁有不锈钢挡片帮助粉料翻转有助于烧结得更均匀。2、可大角度倾斜，方便进出料。3、采用法兰连接，减少了加热管损坏的可能，取、放物料更加方便快捷。4、上开式炉盖设计，可以实时观察加热的物料，并能迅速降温，满足材料骤冷骤热的实验需要；5、具有超温报警，漏电保护等安全操作功能。
1500℃小型开启式管式炉
型号：T1550S-O 特点：炉膛可开启，方便取放炉管，体积小巧，在实验室不占地方，是一款性价比高的高温管式炉
1200℃双温区管式炉
1200℃双温区管式炉，其最高温度可达到1200℃，并可通过调节两个温区的控温程序使炉管内温场形成一温度梯度。两个温区分别由两个独立的温控系统来控制，而且都为PID30段程序化控温。此系列管式炉可以用CVD方法来生长纳米材料和制备各种薄膜。
1700℃双温区真空管式炉
型号：
T1760B
产品概述：
T1760B是一款双温区管式炉，刚玉管外径60mm，加热元件为硅钼棒，加热区分为两个温区可同时烧结两种材料，也可以作为加长单温区管式炉使用，控温精度±1℃，控温方式采用30段控温，最高温度可达1700℃。
1200℃三温区管式炉
型号：
T1280C
用途：
某些热处理实验有时需要一个或多个温度梯度，比如CVD等镀膜试验。如此就会用到多温区的管式炉。
规格：
Φ60*1400mm
特点：
三个温区分别控制，互不影响。
1200℃ mini型真空管式炉
型号：
T1250S
用途：
物理/化学气象沉积（CVD/PVD）实验以及真空/气氛保护烧结、纳米材料制备等。
规格：
Φ50*600mm
特点：
较小的炉膛不仅使得温度控制更加精准而且具有好的稳定性
1700℃单温区真空管式炉
型号：
T1760A
用途：
物理/化学气象沉积（CVD/PVD）以及真空/气氛保护烧结、纳米材料制备。
规格：
单温区 管径大小为Φ60*1000mm
特点：
控温精准/ 可预存1条曲线/ 法兰设有测温孔
1100℃大口径真空管式炉
型号：
T12152C
用途：
此设备是专门为大工件或大批量热处理生产而研发制造的。
规格：
Φ152*1650mm
特点：
152mm超大管径，1100mm超长温区。
炉膛移动式管式炉
型号：
CMT1200
用途：
主要用于快速升降温领域。
规格：
Φ60*1000mm
特点：
炉膛可以根据设定要求，不但可以实现自动左右移动，而且移动速度可人工调节。
1500℃单温区真空管式炉
型号：
T1560A
用途：
1500温度范围内真空或气氛环境下烧结、还原、CVD镀膜等实验
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