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小型PECVD系统

该型号PECVD为成仪最新款,综合了国内大多数厂家的管式PECVD系统的优点,触摸屏集中一键控制,实验证明此结构沉积速度快,成膜质量好,针孔较少,不易龟裂。而且控制部分采用了成仪自主研发的实验电炉AIO全自动智能控制系统,使得操作更加简便,功能更加强大。
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技术参数

PECVD系统就是为了使传统的化学气象沉积(CVD)反应温度降低,普通CVD设备的沉积温度大多在900℃左右,而在普通CVD装置的前端加入RF射频感应装置将反应气体电离,形成等离子体,利用等离子体的活性来促进反应,可以使化学气相沉积的温度降到400℃左右,所以这个系统称为增强型化学气相沉积系统(PECVD)。

该型号PECVD为成仪最新款,综合了国内大多数厂家的管式PECVD系统的优点,触摸屏集中一键控制,实验证明此结构沉积速度快,成膜质量好,针孔较少,不易龟裂。而且控制部分采用了成仪自主研发的实验电炉AIO全自动智能控制系统,使得操作更加简便,功能更加强大。

主要特点:

1. 管内真空度自动平衡——管内真空度实时监测,自动平衡。PECVD工艺要求石英管内真空度通常在0.1~100Pa之间,该型号PECVD的AIO控制系统会通过真空泵的自动启停来维持用户设定的管内真空度,使成膜效果达最佳的均匀性。

2. AIO控制系统——加热控制、等离子射频控制、气体流量控制、真空系统控制集中于一个7英寸触摸屏进行统一集中调节和操控,协调控制——成仪AIO控制系统;

3. 智能气路通断——每路气体均可定时通断,自由切换,省时省力;

4. 射频功率的定时控制——预先设定好功率的大小和打开与关闭的时间,自动运行;

5. 炉膛移动速度可调——根据实验要求,用户可设定炉膛左右移动的速度和距离,在沉积结束后炉膛可自动移开沉积区,使样品快速冷却;

6. 整机结构融为一体——整机长度只有1.5米,移动方便,避免分散组装的困扰。

详细参数:

 

加热炉部分

1

炉膛模式

开启式可移动炉膛

2

显示模式

7英寸触摸屏

3

极限温度

1200

4

工作温度

1150

5

升温速率

建议10/Min   Max30/Min

6

炉体移动

有,速度可调

7

单温区长度

主温区长度:200mm(可选配气体预热部分)

8

炉管规格

60*1150 mm

9

控温精度

±1℃

10

密封方式

快速法兰密封

11

温度曲线

30"时间温度曲线"任意可设

12

预存曲线

可预存15条温度曲线

13

超温报警

14

过流保护

15

断偶提示

16

测温元件

K型热电偶

17

炉膛材料

氧化铝纤维

18

外形尺寸

1500*600*1000MM

 

射频电源功率

1

信号频率

13.56 MHz±0.005%

2

功率输出范围

5W-300W

3

功率稳定度

±0.1%

4

整机效率

>=70%

5

功率因素

>=90%

6

冷却方式

强制风冷

 

真空部分

1

功率

500W

2

抽气速率

2L\s

3

极限真空

4X10-2Pa

 

气路系统

1

1~3路质量流量计可选(七星华创)

2

准确度:±1.5%

3

重复精度:±0.2%

4

工作压差范围:0.10.5 MPa

 

整机系统特色

1

正压测量

-100Kpa---100Kpa

2

真空测量

10-2Pa ~100Kpa(支持Ar测量)

3

正压保护

支持

4

压力恒定

支持

5

智能气路

支持

6

气路定时

支持

7

射频工作时间设定

支持

8

移动速度调节

支持

9

系统最高真空度

4.8×10-3Pa

10

软件功能

1:射频电源开启时间,可以设定,时间到后自动停止射频电源。

2:自动切换气体功能,不同温度通入不同气体,或者根据要求进行定做(选配)

3:自动检测真空度,根据真空度的大小,自动启动射频电源。

4:真空泵自动启动,根据真空度,系统自动判断是否需要启动真空泵。

5.超压保护。

6.其他功能根据要求定做

 

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