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1100℃大口径真空管式炉
型号: T12152C 用途: 此设备是专门为大工件或大批量热处理生产而研发制造的。 规格: Φ152*1650mm 特点: 152mm超大管径,1100mm超长温区。
1100℃高温高压管式炉
此款炉管采用无缝镍基合金管,此款设备专为高温高压实验设计,最高压力高达21MPa,最高温度可达1100℃,并可通入多种氧化或惰性保护气体。对于高压制备新材料和作为小型热等静压处理合金样品,这是一款理想的高温管式炉。
1200℃ 12L箱式炉
型号: M1220 用途: 广泛用于粉末冶金行业、科研院所以及义齿加工行业的中高温烧结、烘烤、退火、氧化锆盘预烧结等。 规格: 200*200*300 特点: 炉膛容积大,实验室与生产企业均可使用.
1200℃ 4.5L箱式炉
型号: M1215 用途: 1200℃以下常规环境下烧结与退火,也可进行灰分烧结实验 规格: 100~1200℃ 特点: 温度精准,经济实惠
1200℃ mini型真空管式炉
型号: T1250S 用途: 物理/化学气象沉积(CVD/PVD)实验以及真空/气氛保护烧结、纳米材料制备等。 规格: Φ50*600mm 特点: 较小的炉膛不仅使得温度控制更加精准而且具有好的稳定性
1200℃ mini混合炉
型号:H1210 它有一个100*100*100mm的小炉膛,因而温度控制更加容易,温场热分布更均匀。 它既可以作为真空气氛炉使用,也可以作为普通马弗炉使用。拿出管子放入一个隔热堵头就变为一个马弗炉。
1200℃ mini箱式炉
型号: M1210 用途: 广泛用于实验室用烧结与退火、义齿加工行业的烘烤、锆盘预烧结等。 规格: 炉膛尺寸为100*100*100mm 特点: 结构小巧、重量轻、便于实验室使用。
1200℃ 井式气氛炉
此款井式气氛炉集控制系统与炉膛为一体。其炉膛保温材料采用整体真空吸附成型,程控镶嵌进口电阻丝,超大口径的石英炉腔和真空水冷密封法兰系统,可以在流动气氛和真空状态下快速加热样品,能很好的替代真空箱式炉。炉子上部配有泄压阀,很好了保证在通气氛使用情况下的安全。
1200℃三温区管式炉
型号: T1280C 用途: 某些热处理实验有时需要一个或多个温度梯度,比如CVD等镀膜试验。如此就会用到多温区的管式炉。 规格: Φ60*1400mm 特点: 三个温区分别控制,互不影响。
1200℃井式炉
型号:J1220A   用途:规格:特点:体积小,价格低,性价比高;使用简单便捷
1200℃单温区真空管式炉
型号: T1260A 用途: 真空或气氛保护状态下烧结,CVD薄膜实验等 规格: Φ50*1000,Φ60*1000,Φ80*1000,Φ100*1000 特点: 它集控制系统与炉膛为一体,外型精简大方,炉膛可打开。
1200℃双温区管式炉
1200℃双温区管式炉,其最高温度可达到1200℃,并可通过调节两个温区的控温程序使炉管内温场形成一温度梯度。两个温区分别由两个独立的温控系统来控制,而且都为PID30段程序化控温。此系列管式炉可以用CVD方法来生长纳米材料和制备各种薄膜。
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