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小款PECVD系统

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应用

PECVD系统就是为了使传统的化学气象沉积(CVD)反应温度降低,普通CVD设备的沉积温度大多在900℃左右,而在普通CVD装置的前端加入RF射频感应装置将反应气体电离,形成等离子体,利用等离子体的活性来促进反应,可以使化学气相沉积的温度降到400℃左右,所以这个系统称为增强型化学气相沉积系统(PECVD)。

该型号PECVD为成仪最新款,综合了国内大多数厂家的管式PECVD系统的优点,触摸屏集中一键控制,实验证明此结构沉积速度快,成膜质量好,针孔较少,不易龟裂。而且控制部分采用了成仪自主研发的实验电炉AIO全自动智能控制系统,使得操作更加简便,功能更加强大。


产品参数

主要特点:

1. 管内真空度自动平衡——管内真空度实时监测,自动平衡。PECVD工艺要求石英管内真空度通常在0.1~100Pa之间,该型号PECVD的AIO控制系统会通过真空泵的自动启停来维持用户设定的管内真空度,使成膜效果达最佳的均匀性。

2. AIO控制系统——加热控制、等离子射频控制、气体流量控制、真空系统控制集中于一个7英寸触摸屏进行统一集中调节和操控,协调控制——成仪AIO控制系统;

3. 智能气路通断——每路气体均可定时通断,自由切换,省时省力;

4. 射频功率的定时控制——预先设定好功率的大小和打开与关闭的时间,自动运行;

5. 炉膛移动速度可调——根据实验要求,用户可设定炉膛左右移动的速度可距离,在沉积结束后炉膛可自动移开沉积区,使样品快速冷却;

6. 整机结构融为一体——整机长度只有1.5米,移动方便,避免分散组装的困扰。

详细参数:


加热炉部分
1炉膛模式开启式可移动炉膛
2显示模式7英寸触摸屏
3极限温度1200℃
4工作温度≤1150℃
5升温速率建议10℃/Min   Max:30℃/Min
6炉体移动有,速度可调
7单温区长度主温区长度:200mm(可选配气体预热部分)
8炉管规格60*1150 mm
9控温精度±1℃
10密封方式快速法兰密封
11温度曲线30段"时间—温度曲线"任意可设
12预存曲线可预存15条温度曲线
13超温报警
14过流保护
15断偶提示
16测温元件K型热电偶
17炉膛材料氧化铝纤维
18外形尺寸1500*600*1000MM

射频电源功率
1信号频率13.56 MHz±0.005%
2功率输出范围5W-300W
3功率稳定度±0.1%
4整机效率>=70%
5功率因素>=90%
6冷却方式强制风冷

真空部分
1功率500W
2抽气速率2L\s
3极限真空4X10-2Pa

气路系统
11~3路质量流量计可选(七星华创)
2准确度:±1.5%
3重复精度:±0.2%
4工作压差范围:0.1~0.5 MPa

整机系统特色
1正压测量-100Kpa---100Kpa
2真空测量10-2Pa ~100Kpa(支持Ar测量)
3正压保护支持
4压力恒定支持
5智能气路支持
6气路定时支持
7射频工作时间设定支持
8移动速度调节支持
9系统最高真空度4.8×10-3Pa
10软件功能

1:射频电源开启时间,可以设定,时间到后自动停止射频电源;

2:自动切换气体功能,不同温度通入不同气体,或者根据要求进行定做(选配);

3:自动检测真空度,根据真空度的大小,自动启动射频电源;

4:真空泵自动启动,根据真空度,系统自动判断是否需要启动真空泵;

5:超压保护;

6:其他功能根据要求定做;





  • 电话: 0371-55027790/55027782、15637176302
  • 传真: 0371 5502 7786
  • 邮箱: chengyi@chysk.com
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