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带预热PECVD系统

此款PECVD系统为带预热型的化学气相沉积系统,气体预热区长度200mm,沉积区长度440mm

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应用

PECVD系统就是为了使传统的化学气象沉积(CVD)反应温度降低,在普通CVD装置的前端加入RF射频感应装置将反应气体电离,形成等离子体,

利用等离子体的活性来促进反应,所以这个系统称为增强型化学气相沉积系统(PECVD)。

该型号PECVD为成仪最新款,综合了国内大多数厂家的管式PECVD系统的优点,在PECVD前端加入了气体预热区,实验证明此结构沉积速度快,成膜质量好,针孔较少,不易龟裂。

而且控制部分采用了成仪自主研发的实验电炉AIO全自动智能控制系统,使得操作更加简便,功能更加强大。




产品参数

主要特点:

1. 管内真空度自动平衡——管内真空度实时监测,自动平衡。PECVD工艺要求石英管内真空度通常在0.1~100Pa之间,该型号PECVD的AIO控制系统会通过真空泵的自动启停来维持用户设定的管内真空度,使成膜效果达最佳的均匀性。

2. AIO控制系统——加热控制、等离子射频控制、气体流量控制、真空系统控制集中于一个7英寸触摸屏进行统一集中调节和操控,协调控制——成仪AIO控制系统;

3. 智能气路通断——每路气体均可定时通断,自由切换,省时省力;

4. 射频功率的定时控制——预先设定好功率的大小和打开与关闭的时间,自动运行;

5. 炉膛移动速度可调——根据实验要求,用户可设定炉膛左右移动的速度可距离,在沉积结束后炉膛可自动移开沉积区,使样品快速冷却;

 

详细参数:


              加热炉部分
1炉膛模式开启式炉膛
2显示模式7英寸触摸屏
3极限温度1200℃
4工作温度≤1150℃
5升温速率建议10℃/Min   Max:30℃/Min
6炉体移动无极调速,根据工艺自动移动
7辅助预热加热区200mm(足够长度才能保证温度准确度)
8温区长度440mm(沉积区),200mm(预热区)
9炉管规格80*2000 mm
10控温精度±1℃
11密封方式快捷法兰连接密封
12温度曲线30段"时间—温度曲线"任意可设
13控制系统加热控制、炉体移动、流量控制、真空系统按照设定一键自动完成整个工艺处理
14预存曲线可预存15条工艺曲线,直接保存并随时调用
15超温报警
16过流保护
17断偶提示
18测温元件K型热电偶
19炉膛材料高纯氧化铝纤维
20加热材料掺钼铁铬铝合金加热丝
21外形尺寸2100*950*1400MM

             射频电源功率
1信号频率13.56 MHz±0.005%
2功率输出范围0-500W
3功率稳定度±0.1%
4谐波分量≤-50dbc
5供电电压单相交流(187V-253V) 频率50/60HZ
6整机效率>=70%
7功率因素>=90%
8冷却方式强制风冷
9控制方式预先设定功率大小,自动运行

真空部分
1真空度控制自动平衡到用户设定真空度。
2正压保护工作腔内压力实时监测,大于设定值自动放气
3工作电电压220V±10%  50~60HZ
4功率500W
5抽气速率2L\s
6进气口口径KF25
7排气口口径KF25
8转速1450rpm
9噪音55dB
10极限真空4X10-2Pa
11系统真空度≤10Pa

             三路供气系统
1流量计类型七星华创质量流量计
2准确度±0.35%
3重复精度±0.2%
4响应时间气特性:1 Sec
5工作压差范围0.1~0.5 MPa
6气路管道304不锈钢
7连接接通双卡套不锈钢接头
8气体种类氮气、氩气、甲烷、二氧化碳、氢气等等(50~500sccm)
9进气控制每路气体均可定时通断,根据工艺自动切换所需气体

             整机系统特色
1正压测量-100Kpa---100Kpa
2真空测量10-2Pa ~100Kpa(支持Ar测量)
3正压保护支持
4压力恒定支持
5智能气路支持
6气路定时支持
7射频时间设定支持
8移动速度调节支持
9系统真空度4.8×10-3Pa
10软件功能1:射频电源开启时间可以设定,自动停止射频电源。2:自动切换气体功能。3:自动检测真空度,根据真空度的大小自动启动射频电源。4:真空泵自动启动,根据真空度,系统自动判断是否需要启动真空泵。



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