TEL:0371-55027790

mini型快速退火炉

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型号:
  
应用范围:快速热退火、快速热氧化、快速热氮化、硅化、扩散、化合物半导体退火、离子注入后退火、电极合金化、晶向化和坚化、合金熔点分析、薄膜沉积等


主要特点:
1、可在真空/不同气氛/空气等不同环境下,对样品进行快速热处理
2、控温精度高
3、适合高校或研究所科研使用
4、无需额外的冷却系统
5、紧凑的台式设计
6、仪器操作方便,样品装取容易
7、价格合理,性价比高


技术参数:
产品型号 RTP1100S
最高温度 1200℃
加热方式 红外卤素钨灯
控温精度 ±0.3℃
最快升温速率 100℃/S
最快降温速率 100℃/S(1000℃→400℃)
额定功率
600W
电压 220V,单相
真空泵及极限压力
机械泵,10-3Torr水平(选配)
工作环境
真空、引入气体、空气
最大样品尺寸 15*15mm,15*20mm
产品外形 400*300*450mm(W*D*H)
净重 30KG